濺射靶材是電子行業(yè)發(fā)展的重要基礎(chǔ)，濺射靶材技術(shù)應(yīng)用在微電子領(lǐng)域、顯示器、儲(chǔ)存、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等行業(yè)具有重要的意義，對(duì)這些行業(yè)來(lái)說(shuō)，濺射板材技術(shù)的高低對(duì)這些行業(yè)的發(fā)展具有主導(dǎo)性作用。無(wú)論是濺射板材的上游企業(yè)還是到濺射板材的下游企業(yè)，濺射板材的技術(shù)水平不僅僅代表一個(gè)行業(yè)的技術(shù)，而且是代表整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的技術(shù)水準(zhǔn)，隨著芯片技術(shù)的發(fā)展，對(duì)高端濺射板材的需求越來(lái)越多，濺射板材行業(yè)市場(chǎng)也變得非?；鸨?！

目前濺射靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商.近段時(shí)間致力于低電阻率銅布線的開(kāi)發(fā)，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年將大幅度取代原來(lái)的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開(kāi)發(fā)將刻不容緩。

濺射靶材雖然市場(chǎng)廣闊，我們也對(duì)于市場(chǎng)上的濺射靶材進(jìn)行分類，我們常把濺射靶材分為以下幾類
1、濺射靶材根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶，方靶，圓靶，異型靶
2、濺射靶材根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
3、濺射靶材根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等
4、濺射靶材根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材

近年來(lái)平面顯示器(FPD)大幅度取代原以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng).亦將大幅增加ITO濺射靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。此外濺射靶材在存儲(chǔ)技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤(pán)，高密度的可擦寫(xiě)光盤(pán)的需求持續(xù)增加.這些均導(dǎo)致應(yīng)用產(chǎn)業(yè)對(duì)濺射靶材的需求發(fā)生變化。